EMICON SA Systeme stehen für präzise, zuverlässige Prozesskontrolle in Plasmaprozessen. Ob Sputtern, Ätzen oder HIPIMS – sie überwachen Stabilität, erkennen Verunreinigungen und ermöglichen ortsaufgelöste Messungen selbst auf großen Flächen. Mit 24/7 Stand-Alone-Betrieb, Sollwert- und PID-Regelfunktionen sowie Mehrkanalsystemen liefern sie maximale Kontrolle und Effizienz für Ihre Produktion, wobei das System mittels LAN oder Profibus/Profinet in eine vorhanden Anlagensteuerung eingebunden werden kann.
Applikationen
- Prozessregelung von reaktiven Sputterprozessen (Gasfluss/Leistung)
- Überwachung der Prozessstabilität
- Endpunktbestimmung in Plasma-Ätzprozessen
- Ionendichteregelung in HIPIMS-Prozessen
- Erkennung und Überwachung von Plasmaverunreinigungen
- Ortsaufgelöste Prozessüberwachung von großflächigen Anwendungen