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Produkte
Plasmatechnologie
Pulse Pattern Controller PPC 1/2
Der Puls Plasma Controller PPC-1 ist direkt zum Einsatz in Plasmabehandlungsanlagen vorgesehen, die Hochstrom Puls-Generatoren enthalten. Er ist daf├╝r geeignet, Hochstrom-Puls-Generatoren, die mit externem Modulationseingang ausgestattet sind, mittels Pulsmuster anzusteuern. Mittels des PPC wird eine preisg├╝nstige und industrietaugliche L├Âsung bereitgestellt, um mit Pulsgeneratoren ausgestattete Plasmaprozesse zu steuern.

Aufgrund seiner Modularit├Ąt kann der PPC-1 sowohl im F&E Bereich an Universit├Ąten und Forschungs- einrichtungen, als auch in industriellen Pilotanlagen eingesetzt werden. ┬╗ Ansteuerung von Hochstrom Puls-Generatoren (HIPIMS Technologie)
┬╗ programmierbares Pulsmuster
┬╗ schnelle Aufzeichnung von Pulsspannung und Pulsstrom
┬╗ Einbindung zus├Ątzlicher Messsensoren
┬╗ flexibler Einsatz durch modulare Bauweise

Im PPC-2 k├Ânnen zus├Ątzlich 2 CCD-Spektrometer (200-1100nm) zur optischen Prozesskontrolle integriert werden. F├╝r die Anpassung an bestehende Plasmaanlagen sowie andere optische Adaptionen sind weitere optische Komponenten und Spektroskopiezubeh├Âr erh├Ąltlich.
M├Âgliche Anwendungsfelder:

┬╗ HIPIMS - Prozessansteuerung
┬╗ Prozessmonitoring
┬╗ Prozessregelung auf Pulsstrom und Pulsspannung (zus├Ątzliche Sensoren m├Âglich)
┬╗ Optische Prozesskontrolle (nur PPC 2)
Weiterentwicklungen im Sinne des technischen Fortschritts vorbehalten.
Weitere Informationen k├Ânnen Sie gern ├╝ber unser Kontaktformular erfragen.