Der Puls Plasma Controller PPC-1 ist direkt zum Einsatz in Plasmabehandlungsanlagen vorgesehen, die Hochstrom Puls-Generatoren enthalten. Er ist dafür geeignet, Hochstrom-Puls-Generatoren, die mit externem Modulationseingang ausgestattet sind, mittels Pulsmuster anzusteuern. Mittels des PPC wird eine preisgünstige und industrietaugliche Lösung bereitgestellt, um mit Pulsgeneratoren ausgestattete Plasmaprozesse zu steuern.

Aufgrund seiner Modularität kann der PPC-1 sowohl im F&E Bereich an Universitäten und Forschungs- einrichtungen, als auch in industriellen Pilotanlagen eingesetzt werden. » Ansteuerung von Hochstrom Puls-Generatoren (HIPIMS Technologie)
» programmierbares Pulsmuster
» schnelle Aufzeichnung von Pulsspannung und Pulsstrom
» Einbindung zusätzlicher Messsensoren
» flexibler Einsatz durch modulare Bauweise

Im PPC-2 können zusätzlich 2 CCD-Spektrometer (200-1100nm) zur optischen Prozesskontrolle integriert werden. Für die Anpassung an bestehende Plasmaanlagen sowie andere optische Adaptionen sind weitere optische Komponenten und Spektroskopiezubehör erhältlich.

Mögliche Anwendungsfelder:

» HIPIMS - Prozessansteuerung
» Prozessmonitoring
» Prozessregelung auf Pulsstrom und Pulsspannung (zusätzliche Sensoren möglich)
» Optische Prozesskontrolle (nur PPC 2)

Weiterentwicklungen im Sinne des technischen Fortschritts vorbehalten.
Weitere Informationen können Sie gern über unser Kontaktformular erfragen.